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针对大流量CEDI系统设计的VNX膜堆作为一种清洁、环境友好的技术，相对需要化学药剂再生的混床更有优势。采用大流量的CEDI膜堆可以使系统的配管更少，系统集成更简单。
LX和VNX膜堆均采用平板式结构设计，产水室和浓水室交替排布。平板式设计相对其它结构的设计（如卷式）而言水流分布和电流分布更均匀。这对膜堆的性能表现和膜堆使用寿命都非常关键
无需化学药剂再生
双O型圈密封保证不泄漏
无需浓水循环
无需注盐系统
可在100psi，113F（45）下连续运行
专利保护的全填充式设计
低运行成本
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膜堆技术规格 |
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最低产水流量 gpm (m3hr) |
25 (5.7) |
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标准产水流量 gpm (m3hr) |
50 (11.4) |
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最高产水流量 gpm (m3hr) |
75 (17.0) |
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运行参数 |
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典型回收率 (%) |
90-95% |
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最高供水压力 psi (bar) |
100 psi (7 bar) |
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标准压力降 psi (bar) |
20-30 psi (1.4-2.1 bar) |
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供水温度 |
5-45°C (41-113 ° F) |
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直流电压 |
0-600 VDC |
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直流电流 |
0-20 A |
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产水技术规格 |
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产水电阻系数 |
>16 MΩ-cm |
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产水二氧化硅含量 |
90 - 99%去除率 |
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